学设计的构型、入射角，再到基底材料、反射涂层、热管理子系统和电磁场碎屑减缓系统，甚至连镀膜工艺的参数表、误差校准的算法模型都附带在内。

此前光学部争论了半个月的「多镜拼接角度偏差」问题，文档里直接给出了「雷射干涉实时校准」的解决方案，就连校准用的雷射波长、采样频率都标注得一清二楚。

林南猛地站起身，声音都有些发颤：「这简直是把答案写了出来！」

技术文档里没署名，这套技术是老板买来的、抢来的，还是说除了星源科技光学部，森联资本其实另有研发实验室？

林南坐在工位上，忍不住胡思乱想着。

上次dp-euv光源技术的事，他就问过梁劲松和陈延森。

梁劲松一头雾水，陈延森则让他别瞎打听，他也只能把满肚子好奇压在心底。

可这一次，他又按捺不住了。

实在是「多壳层掠入射椭圆收集镜系统」的技术太强了，完全是一套完整且成熟的技术方案，由不得他不多想。

林南沉吟半晌，最后苦笑了一声，捏着手机的右手重新放下。

他知道有些问题，别人不想说，就代表不能说，或者说根本没有答案。

随后，他连忙召集核心研发人员开会。

会议室内，当大家看到文档中「多壳层椭圆结构」的三维模型时，原本沉闷的气氛瞬间沸腾。

光学系统设计组的主任工程师指着屏幕说道：「内层镜负责捕获中心60度范围内的euv光，中层镜覆盖60到120度，外层镜补全120到180度，这样收集效率至少能提升到80，压根就没法比，我们之前的那套方案跟垃圾有什幺区别？」

更让众人惊喜的是热管理子系统！

文档中提出在镜体内部嵌入微通道水冷结构，搭配耐高温的钼铼合金基底，既能承受等离子体的高温冲击，又能避免温度过高导致多层膜脱落。

「我们最担心的『高温损伤』问题，这套方案竟然连水冷通道的直径、水流速度都算好了！」

材料组的工程师翻到工艺参数页，激动地说道。

「对了，林工！这个梯度涂层的方案，从钼硅多层膜到二氧化硅保护层，每层的厚度误差控制在01纳米以内，还得用脉冲雷射沉积法分80次沉积，这精度咱们的设备能达到吗？」

有人面露难色地担忧道。

林南皱起眉头，看向设备组的主任工程师问道：「蔡司镀膜机在恒温恒湿环境下，能不能把精度稳定控制在005到01纳米之间？」

设备组的主任工程师想了想，非常严谨地回答道：「连续沉积10层钼硅膜，厚度误差最小004纳米，最大009纳米，刚好能满足方案要求。

但问题是，每次换靶材、调整雷射功率时，误差会出现012到015纳米的波动，80次沉积下来，累积误差可能会超标。」

林南思索片刻，给了一条解决思路：「那就加一道实时校准的流程，算法组先开发一套膜厚监测程序，跟镀膜机的传感器联动，每沉积10层，就自动暂停，用电子显微镜扫描膜厚。

根据实测数据调整下一轮的雷射功率和沉积时间，把单次误差控制在0

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